Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE
Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C
Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J
Hakuto 离子蚀刻机 10IBE
KRI 聚焦型射频离子源 RFICP 380用于制备超薄 TEM 样品
KRI 射频离子源用于碳化硅微纳结构表面刻蚀
KRI 考夫曼离子源 KDC 100 辅助镀制五金连接件铬膜
KRI 聚焦型射频离子源用于制备类金刚石薄膜
伯东 KRI 离子源用于大口径光学元件 KDP 晶体的溅射与刻蚀
伯东 KRI 无栅霍尔离子源 eH 3000 辅助镀制高质量光学薄膜
考夫曼离子源 KDC 160 辅助沉积高铝超硬涂层增强切削性能
伯东 KRI 考夫曼射频离子源用于纯钛表面氨基化改性的研究
集成真空台 / 拾取工具 ( GP-TrayVac / A）
真空手泵 ( VHP-24 )
真空释放台 ( VRS-24 )
晶圆 / 大规格 VR真空板（VP-900）